集成电路

本页介绍集成电路专利申请的流程、申请时间、申请费用以及所需材料等
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1.集成电路布图设计保护客体

集成电路布图设计是指:集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路的三维配置,或者为制造集成电路而准备的上述三维配置。

我国于2001年10月1日颁布并实施《集成电路布图设计保护条例》,由国家知识产权局负责集成电路布图设计的登记申请工作。

集成电路布图设计专有权的保护期为10年,自布图设计登记申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算,以较前日期为准。布图设计自创作完成之日起15年后,不再受《集成电路布图设计保护条例》的保护。


2.集成电路布图办理手续

1)  在登记委托书上盖章或签字

2)  提供布图设计的复制件或者图样

3)  布图设计已投入商业利用的,提交含有该布图设计的集成电路样品4个


3.集成电路布图办理时间

自登记申请之日起3个月左右获得登记证明文件。

 

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